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GMD2000水性涂料納米復(fù)合材料研磨分散機(jī)
水性涂料納米復(fù)合材料研磨分散機(jī),是該涂料生產(chǎn)核心設(shè)備。其集成高效研磨與分散功能,通過精密研磨腔與高速剪切系統(tǒng),可將納米復(fù)合材料打散至納米級(jí),實(shí)現(xiàn)均勻分散;配備智能控溫與參數(shù)調(diào)節(jié)功能,避免物料過熱變質(zhì),保障涂料分散穩(wěn)定性,助力提升水性涂料的力學(xué)與耐候性能。
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ARTICLES水性涂料納米復(fù)合材料研磨分散機(jī)
SID研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
納米涂料(也稱納米超細(xì)粉料)是指:涂料中至少有一相的粒徑尺寸在1-100納米的粒徑范圍,且納米相的存在使涂料的性能有明顯的提高或具有新的功能。目前的納米涂料生產(chǎn)設(shè)備較為分散,還未形成一個(gè)完整的生產(chǎn)工藝鏈,即目前生產(chǎn)納米涂料均采用的是將涂料的粉料混合、除雜、粉料粉碎的工藝分開進(jìn)行。
制備納米復(fù)合負(fù)離子發(fā)射材料:將負(fù)離子發(fā)射材料在溶劑中進(jìn)行液相研磨,并加入低分子量聚乙二醇或超支化含羥基和羧基的聚合物作為表面修飾劑,室溫混合得到納米復(fù)合負(fù)離子發(fā)射材料的溶液;制備水性涂料納米復(fù)合材料:將所述納米復(fù)合負(fù)離子發(fā)射材料的溶液與水性聚氨酯涂料復(fù)合,得到水性涂料納米復(fù)合材料的溶液。
高速研磨分散機(jī),線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形,具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,通過高速研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
SID模塊化設(shè)計(jì)的主要特點(diǎn)如下:
-直立式腔體結(jié)構(gòu),物料可以全部進(jìn)入分散腔;
-無si角;
-良好的表面處理;
-符合CIP/SIP的清洗要求;
-低噪音;
-所有接觸物料的材質(zhì)均為SS316;
-小試、中試到量產(chǎn),平穩(wěn)過渡;
-僅需簡單的更換功能模塊,即可滿足分散-懸浮-均質(zhì)-乳化的不同要求;
-衛(wèi)生設(shè)計(jì),適合食品及制藥行業(yè);
-可提供特殊材質(zhì)滿足磨損性及腐蝕性產(chǎn)品處理要求。
水性涂料納米復(fù)合材料研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù)表:
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 |
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